Equipos de Doble Haz (Dual Beam) Helios Nanolab 600 y 650
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El segundo equipo de Doble Haz situado en la Sala Blanca es el modelo Helios 650 (ver imagen a la izquierda), que es una versión mejorada del Helios 600. La diferencia principal entre ambos se refiere a la columna de electrones que posee un monocromador y decelerador del haz, llegando en el Helios 650 a una resolución de 0,9 nm. La columna de iones se diferencia principalmente de la del Helios 600 por tener un vacío diferencial en la parte más baja, lo que permite tener un perfil de haz bien definido al impactar en la superficie de la muestra. Los resultados obtenidos con esta columna muestran la posibilidad de crecer materiales de alto interés científico a escala nanométrica. Además, esta columna de iones es muy adecuada para la preparación de lamelas, en combinación con el nanomanipulador Omniprobe®. El equipo además tiene instalados 5 inyectores de gas y una estación de micropuntas (Kleinkiek®).
Los investigadores de centros públicos o privados así como los profesionales del mundo industrial que requieran el uso de este equipo dispondrán también, si así lo solicitan, del apoyo científico y técnico de nuestro personal altamente cualificado y experimentado.
¿Qué puede hacerse con estos equipos?
Imágenes (resolución 1,4 nm)/ Análisis:
Gracias a los distintos tipos de detectores disponibles en estos equipos, puede obtenerse la siguiente información:
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Imágenes con electrones secundarios y topografía por medio de detectores ETD/TLD (del inglés Everhart-Thornley Detector / Through lens detector).
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Imágenes con electrones retrodispersados y composición utilizando un detector BSED (Back Scattering Electron Detector).
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Imágenes de iones secundarios sensibles a la dirección cristalográfica utilizando detectores CDEM/ICE (Channel Detection Electron Multiplier / Ion Conversion and Electron).
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Análisis Químico Elemental por EDX (Energy-Dispersive X-ray micro-analysis).
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Imágenes STEM (barrido-transmisión).
Nanofabricación (dimensión lateral menor entre 50 nm y decenas de micras)
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Directa FIB (focused ion beam): grabado de un motivo pre‐diseñado sobre la muestra.
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Directa FEBID/FIBID(focused electron/ion beam induced deposition).
GASES PRECURSORES
(CH3)3(CpCH3)Pt, Co2(CO)8, W(CO)6, TEOS + H2O –> SiO2, Selective Carbon Mill
(MgSO4•7H20), I2, XeF2
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Indirecta: Litografía electrónica (Raith®).
Micromanipulación
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Preparación de lamelas (muestras para observación al TEM) – Omniprobe ®.
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Micro-pinzas (Kleindiek®).
Medidas eléctricas in‐situ
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Estación de 4 micropuntas Kleindiek ®.
Requerimientos de las muestras
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Las muestras no conductoras deben recubrirse de una película conductor (por sputtering o por evaporación, también disponible en nuestro centro).
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Pueden estudiarse muestras conductoras y no conductoras tales como estructuras tridimensionales, películas, polvo compactado, etc.
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Las muestras deben resistir condiciones de alto vacío.
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Dimensión de la muestra: desde menos de 1 mm a 100 mm (espesor de la muestra < 10 mm).
Especificaciones técnicas
Resolución delhaz de electrones |
0.9 nm a 5 kV |
Resolución del hazde iones |
4.0 nm a 30 kV |
Rango de voltajede trabajo |
Haz de electrones: 20 V – 30 kVHaz de iones: 500 V – 30 kV |
Corriente de sonda |
Haz de electrones: 0.8 pA hasta 26 nAHaz de iones: 0.1 pA – 65 nA (15 posiciones) |
Plataformaportamuestrasmotorizada concinco ejes (altaprecisión) |
XY: 150 mm, piezo-eléctricoZ: 10 mm motorizadoT: – 10° hasta + 60°R: n x 360° (sin fin), piezo-eléctricoPrecisión al inclinar (entre 50° y 54°): 0,1°Inclinación y rotación compucéntrica |
Precisión de vacíoen la cámara |
< 2,6 x 10-6 mbar (tras 24 h de bombeo) |
Tamaño demuestras |
Tamaño máx.: 150 mm de diámetro (sin restricciones de rotación e inclinación; mayores dimensiones con restricción al rotar e inclinar).Peso: max. 500 g (incluyendo el portamuestras) |